半導體生產排放的廢氣和廢水中砷、磷、硫的分析方法研究

論文類型	基礎研究	發表日期	2003-11-01
來源	重慶環境科學
作者	聞瑞梅,鄧守權,張亞峰,范偉
關鍵詞	高溫氫還原-氣相色譜砷磷硫分析方法
摘要	研究了一種快速、靈敏、可靠的高溫氫還原2氣相色譜分析方法[1- 2 ],并自行設計了高溫還原系統(還原爐、六通閥等), 測定半導體生產排放廢氣和廢水中的砷、磷、硫及其化合物, 樣品不需預處理, 使氣相色譜儀能直接測定固、液、氣相樣品中砷、磷、硫及其化合物的含量。砷、磷、硫的檢測限分別為0.01mg/L、0. 003mg/L 、0. 02mg/L ; 相對標準偏差分別為6. 2%、8. 6% 和0. 3% , 與經典方法進行對比, 結果基本一致。從分析方法的誤差統計角度, 也說明該方法準確、可靠。